仪器名称：超高真空电子束镀膜机（EBE）

生产厂家：上海实路真空技术工程有限公司

型 号：EBE

技术指标：1.进样室极限真空（Torr）：8.0E-8

2.生长室极限真空（Torr）：3.0E-9

3.样品加热额定最高温度（K）：1073

4.样品均匀性（4英寸裸片）<±5%

5.QCM膜厚在线监控

功能特色：能够实现高真空条件下样品的沉积，总共有四个靶位。目前三个靶位固定，能进行高纯SiO₂、Ti、Au、NiFe等材料的电子束蒸发沉积（100nm的误差可控制在2nm以内），剩余一个靶位可自带坩埚与靶材。样品托具有旋转功能，能保证较高均匀度。

样品要求：四英寸及以下基片

仪器地点：物理楼B242

联系方式：何行，15351428626，x-he23@mails.tsinghua.edu.cn