仪器名称：激光直写光刻仪（LDWL）

生产厂家：苏大维格光电

型　　号：Microlab Lite

技术指标： 

1. 光源：可曝光G-line、H-line、I-line和宽带光刻胶，405nm LED光源，最大功率为100mW

2. 最高分辨率：20倍透镜下1µm

3. 线宽变化量：20倍透镜下±200nm

4. 平台移动分辨率：10nm

5. 套刻精度：20倍透镜下±0.5µm

6. 效率：20倍透镜下≥40mm²/min@1µm

功能特色：拥有微米级的分辨率，用于微图形结构制造，实现点阵、直线混合方式光刻、图像输入光刻等。

样品要求：支持基板尺寸：最大可放入100mm直径基片，可保证100mm×100mm范围内准确曝光。

仪器地点：物理楼B242

联系方式：唐老师，010-62791292，tangly@mail.tsinghua.edu.cn