仪器名称：电子束曝光系统（EBL-Sigma 300）

生产厂家：德国Zeiss+德国Raith

型 号：Sigma 300

技术指标：1.SEM

1）加速电压：0.02kV-30kV，以10V为步进连续可调

2）最小束斑：1.4nm@1kV；1nm@15kV；1.1nm@30kV

3）电子束束流：3pA-20nA@高分辨率选项、12pA-100nA@高束流选项

4）EBL最小线宽：50nm，套刻精度50nm，拼场精度1um；放大倍率：10X-1000000X

2.样品台

1）X=125mm，Y=125mm

2）Z=50mm，Z'=13mm

3）T=-10°-90°，R=360°连续

功能特色: 1.采用肖特基热场发射电子束源，可在电子束光刻胶上曝光最小线宽为50nm的图形结构；

       2.除电子束曝光功能外，具有In lens SE detector和SE2 detector两个二次电子探测器，可实现高分辨率的成像和精确度量。

仪器地点：物理楼B127

联系方式：李曰覃，15398505185，yt-li22@mails.tsinghua.edu.cn