仪器名称：电子束曝光系统（EBL-Tescan Mira）

生产厂家：捷克Tescan

型　　号：Tescan Mira

技术指标：

1. SEM

1）加速电压：200V-30kV

2）束流：2pA-400nA

3）最大视场范围：>8mm@WD10nm, >18mm@WD15mm, >50mm@max.WD

4）放大倍数：2X到100kX

5）束斑：1.2nm@30keV

2. 样品台

1）XY范围：60mm×80mm

2）Z范围：50mm

3）倾斜：-80度到80度，旋转：360度

4）负载限制：500g

3. 配件

1）仅配备SE探测器

2）带有EBL套件

功能特色：

1. 只具备SE探测器，软件自带多项自动校正与辅助功能，无需棋盘校正，长度测量误差在千分之一到百分之一之间。

2. 可在电子束光刻胶上曝光几十到几百纳米的结构。

样品要求：XY平面尺寸小于0.6cm×0.8cm，重量小于500g，导电性良好。

仪器地点：物理楼B127

联系方式：石莹，18810799732，shi-y19@mails.tsinghua.edu.cn