仪器名称：无掩模版紫外光刻机（MUPL）

生产厂家：托托科技（苏州）有限公司

型　　号：TTT-07-UV Litho-ACA Pro+

技术指标：

1. 光源曝光波长：LED 380nm

2. 配置4个光刻镜头（支持电动切换），光刻精度：

光刻镜头1：最小线宽6µm，工作距离30mm

光刻镜头2：最小线宽1.5µm，工作距离19mm

光刻镜头3：最小线宽0.8µm，工作距离12mm

光刻镜头4：最小线宽0.4µm，工作距离5mm

3. 支持样品电动旋转，旋转台的步进精度0.0005°，偏转角度±30°

4. 运动台：z轴的步进精度1nm，X轴的步进精度5nm，Y轴步进精度5nm

功能特色：无掩模版紫外光刻机具备纳米级高精度加工能力，可实现微纳米尺度的功能结构与器件的制作。

样品要求：支持最大样品尺寸：155mm×155mm，最大样品厚度：15mm，支持样品吸附固定。

仪器地点：物理楼B242

联系方式：唐老师，010-62791292，tangly@mail.tsinghua.edu.cn