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电子束曝光系统（EBL-Tescan Mira）
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仪器名称：电子束曝光系统（EBL-Tescan Mira） 生产厂家：捷克Tescan 型 号：Tescan Mira 技术指标： 1. SEM 1）加速电压：200V-30kV 2）束流：2pA-400nA 3）最大视场范围：>8mm@WD10nm, >18mm@WD15mm, >50mm@max.WD 4）放大倍数：2X到100kX 5）束斑：1.2nm@30keV 2. 样品台 1）XY |
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| 发表时间:2025-04-29 |
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电子束曝光系统（EBL-Sigma 300）
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仪器名称：电子束曝光系统（EBL-Sigma 300） 生产厂家：德国Zeiss+德国Raith 型 号：Sigma 300 技术指标： 1. SEM 1）加速电压：0.02kV-30kV，以10V为步进连续可调 2）最小束斑：1.4nm@1kV；1nm@15kV；1.1nm@30kV 3）电子束束流：3pA-20nA@高分辨率选项、12pA-100nA@高束流选项 4）EBL最小线宽 |
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| 发表时间:2025-04-29 |
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激光直写光刻仪（LDWL）
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仪器名称：激光直写光刻仪（LDWL） 生产厂家：苏大维格光电 型 号：Microlab Lite 技术指标： 1. 光源：可曝光G-line、H-line、I-line和宽带光刻胶，405nm LED光源，最大功率为100mW 2. 最高分辨率：20倍透镜下1µm 3. 线宽变化量：20倍透镜下±200nm 4. 平台移动分辨率：10nm 5. 套刻精度：20倍透镜下±0.5µm 6. 效率 |
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| 发表时间:2025-04-29 |
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超高真空电子束镀膜机（EBE）
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仪器名称：超高真空电子束镀膜机（EBE） 生产厂家：上海实路真空技术工程有限公司 型 号：EBE 技术指标： 1. 进样室极限真空（Torr）：8.0E-8 2. 生长室极限真空（Torr）：3.0E-9 3. 样品加热额定最高温度（K）：1073 4. 样品均匀性（4英寸裸片）<±5% 5. QCM膜厚在线监控 功能特色： 能够实现高真空条件下样品的沉积，… |
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| 发表时间:2025-04-29 |
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高分辨率拉曼光谱仪（RAMAN）
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仪器名称：高分辨率拉曼光谱仪（RAMAN） 生产厂家：法国Horiba 型 号：LabRAM HR Evolution 技术指标: 1. 激光光源：532nm、633nm、325nm 2. 拉曼频移范围： 532nm滤光片套件，低波数测量到50cm-1 633nm滤光片套件，低波数测量到50cm-1 325nm滤光片套件，波数测量范围200cm-1到4000cm-1 3. 平移台参数：XYZ |
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| 发表时间:2025-04-29 |
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傅里叶变换红外光谱仪（FTIR）
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仪器名称：傅里叶变换红外光谱仪（FTIR） 生产厂家：德国Bruker公司 型 号：VERTEX 80v 技术指标: 1. 光谱范围：8000-350cm-1。可扩展至远红外波段：650-8cm-1，但需自备液氦供探测器用 2. 分辨率：优于0.2cm-1。可优于0.07cm-1，但需自备液氮供探测器用 3. 波数精度：优于0.01cm-1@2000cm-1 功能特色： 红外光谱主要… |
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| 发表时间:2025-04-29 |
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光谱成像显微镜（WiTec Raman）
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仪器名称：光谱成像显微镜（WiTec Raman） 生产厂家：德国WITec公司 型 号：Alpha 300RAS 技术指标: 1. 光源：激光器波长532nm，总功率75mW；连续光源波长范围475-2350nm，总功率5.5W。 2. 压电陶瓷样品台X、Y向行程100µm×100µm，精度1.5nm；Z向行程20µm，精度0.3nm。自动步进样品台X，Y向行程50mm×50mm，步长 |
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| 发表时间:2025-04-29 |
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原子力显微镜（AFM）
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仪器名称：原子力显微镜（AFM） 生产厂家：布鲁克 型 号：INNOVO 技术指标: 1. 扫描范围：90µm×90µm×7.5µm 2. 噪声水平：≤0.5Å 3. 光学辅助观察系统：视场范围从0.24mm到1.25mm，分辨率2µm 4. 样品台直径：45mm，厚度：18mm 5. 手动样品台移动，移动范围：5mm×5mm 功能特色: 1. 可进行接触模式、轻敲模式、相位成像… |
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| 发表时间:2025-04-29 |
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